? Información de producto: 1, que se utiliza principalmente en la fabricación de circuitos integrados procesa con fotografía, DIF, WET / Etch, Eglass, níquel y otros procesos para el proceso de obleas de 2 a 12 pulgadas; ??? 2, el proceso principal: de acuerdo a los requerimientos de los clientes, el uso de HF / HNO3 / HCL? /? H3PO4 / H2SO4 /? SC1 / SC2 / H2SO4 / NMP / BOE y otro líquido, combinado con el ultrasonido, lanzar, filtración, calefacción, transmisión mecánica, dosificación automática, la rehidratación y otras funciones de circulación, a partir del eliminación de iones metálicos, partículas, pegamento y otra suciedad en el silicio, con el fin de lograr el efecto deseado; ??? 3, control :? manual, semiautomático; ??? 4, Material :? De acuerdo con los requisitos del cliente y de proceso selección, opcional PP, PVC, PVDF, PTFE, cuarzo, SUS y otros materiales. Descripción del producto: dise?o modular, de acuerdo a su proceso y necesidades para ofrecerle un dise?o especial, personalizada de acuerdo al presupuesto del cliente, programas de tecnología de proceso de limpieza óptima; rentable; muchos módulos para la elección; interfaz fácil de usar; seguridad y protección del medio ambiente, el mantenimiento fácil, productos no estándar de acuerdo a sus necesidades específicas son consejos detallados bienvenidos! ?